お使いのブラウザはサポート対象外です。推奨のブラウザをご利用ください。

サファイア用洗浄剤サファイア用洗浄剤

サファイアはその優れた特性からLEDやパワーデバイス、その他エレクトロニクス分野への需要が高まっております。
当社では研磨加工後の洗浄剤を販売しております。
研磨剤・加工条件に応じた最適な洗浄剤をご提案いたします。

メタブライツ SS シリーズの特長

  1. 1洗浄後残留砥粒比較…仕上げ研磨後(コロイダルシリカ)

    残留砥粒 SS-437L < SS-411 < 他社品

    ウェハ サファイアウェハ
    スラリー コロイダルシリカ(平均粒子径;80nm)
    洗浄
    • 濃度:10%
    • 温度:50°C
    • 時間:5min
    • 超音波:37kHz/200W(浸漬)
    評価方法 AFM(原子間力顕微鏡)、FE-SEM(走査型電子顕微鏡)
  2. 2改善事例(量産実績)

    当社洗浄後を使用することで、残留砥粒(B4C)が低減できます。
    ウェハ清浄度を向上することで、熱処理後の不良率が従来よりも半減し、ユーザー様での量産歩留りの改善に貢献しました。

  3. 3各種砥粒に対する洗浄性

    下記製品をラインナップしております。

    • 仕上げ研磨後洗浄剤…SS-411(特にAl2O3に有効)
    • 粗~仕上げ研磨後洗浄剤…SS-437L, SS-440L(SS-411の粗研磨後洗浄性を強化)
    製品番手 SS-411 SS-437L SS-440L
    採用実績 韓国 日本 日本
    用途 仕上げ研磨後研磨剤:アルミナ、コロイダルSi 粗・仕上げ研磨後粗:B4C,SiC
    仕上げ:アルミナ、コロイダルSi
    粗・仕上げ研磨後粗:B4C,SiC
    仕上げ:アルミナ、コロイダルSi
    使用条件 希釈率 5 - 10% 5 - 10% 5 - 10%
    使用温度 50~60°C 50~60°C 50~60°C
    超音波の有無 有り(低周波) 有り(低周波) 有り(低周波)
    その他 pH (25°C,10%) 12.6 12.7 12.6
    比重(20°C・原液) 1.05 1.07 1.06
    COD-Mn (10% mg/L) 3100 2900 3300

商品に関するお問い合わせ