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工業用事業開発室工業用事業開発室

工業用事業開発室のSettsuクオリティ

太陽電池※1や各種ウェハ向けの洗浄剤をはじめとする先端分野の研究・開発に携わっている少数精鋭の部署です。
新規素材の探索から、量産検討、さらには事業開発までを一貫して行っております。お客様、大学や公的機関との連携も行いながら、お客様のニーズに的確にお応え致します。

製品紹介について

研究開発拠点(大阪野田テクノ&ビジネスセンター)

工業用事業開発室は、当社創業の地である大阪野田に先端技術開発拠点である野田テクノ&ビジネスセンターを擁しています。利便性の高い環境の中で、電子材料用のエッチング剤※2/洗浄剤などの専門性の高い製品の研究・開発に携わっています。

保有機器

工業用事業開発室では、下記の分析装置を保有しております。

  • 電子顕微鏡
    各種材料の表面形状や異物の元素分析を行うことができる装置です。
    洗浄及びテクスチャー形成前後でのシリコン表面の形状や汚染物の観察等に使用しております。
    • 使用例
  • 分光光度計
    固体試料の紫外可視域~近赤外域に亘る広範囲の光の波長で測定できる装置です。
    テクスチャー形成前後でのシリコン表面の反射率測定等に使用しております。
    • 使用例
    • レーザー顕微鏡
    • 自動滴定装置(アルカリ・シリコン濃度の測定用)
    • エッチング装置
      酸やアルカリ溶液を用いたウェットエッチングを5℃~100℃の間で行うことができる装置です。

共同研究・学会活動

共同研究や学会活動にも力を入れております。
太陽電池用エッチング剤に関する大学との共同研究では、太陽電池セルの発電効率まで評価することで最適なエッチング剤・洗浄剤の処方設計を行っております。
また、国内外の学会にて招待講演等も行い、基礎的な研究にも注力しております。

  • CSPV(国際会議)の会場の様子
  • 学会活動の様子(CSPVでの発表)

学会発表

2017年

日本材料科学会(発表予定)

単結晶シリコン太陽電池用テクスチャーの開発と評価 (共同発表)

2017年

応用物理学会 春季

Cat-CVD SiNx膜による微細テクスチャー結晶Si表面のパッシベーション(共同発表)

2016年

12th CSPV(国際会議)

Development of The Next Generation Mono-crystalline Texture Agent (Invited talk)

2016年

応用物理学会 秋季

固定砥粒方式スライス多結晶シリコン太陽電池におけるテクスチャー構造の形成(共同発表)

2016年

学振175委員会
:次世代シリコン太陽電池分科会

ウエハ-洗浄とテクスチャー形成の新技術(依頼講演)

2015年

11th CSPV(国際会議)

The Realization of High Clean Si-Wafer Surfaces
―For The Realization of Process Stabilization and High Generation Efficiency

2015年

11th CSPV(国際会議)

Development of The Next Generation Mono-crystalline Texture Agents

2014年

10th CSPV(国際会議)

The Research of Pre-treatment & Cleaning Agent for Poly-wafer with DWS(Invited talk)

2014年

応用物理学会 結晶工学分科会

ウエハー洗浄とテクスチャー形成の新技術 (依頼講演)

2013年

9th CSPV(国際会議)

Realization of High Clean Si Wafer
―Analysis of Surface Contamination and Cleaning Method (Invited talk)

China SoG Silicon and PV Power Conference。中国で開催される太陽電池の国際会議。

用語集

※1 太陽電池
太陽光の光エネルギーを受けて、そのエネルギーを直接電気エネルギーに変える半導体装置。光起電力効果を利用した光電変換素子の一種。
太陽電池セル、太陽電池モジュール、太陽電池パネルなどの総称として用いる場合もあります。
※2 エッチング剤
シリコン基板の表面を少し溶かして(エッチング)表面に微細な凹凸(テクスチャー)をつけ、これにより、太陽光の吸収(光閉じ込め効果)を増やすための薬剤です。

製品紹介について